中国5纳米光刻机突破 中国五纳米光刻机

进入现代社会，我们的科技能发展这么快，其中很重要的一个环节就是芯片。中科院又传来好消息。他们突破了5nm光刻机的制造工艺，他们的好成绩也是因为他们对半导体领域研发的大力

进入现代社会，我们的科技能发展这么快，其中很重要的一个环节就是芯片。中科院又传来好消息。

他们突破了5nm光刻机的制造工艺，他们的好成绩也是因为他们对半导体领域研发的大力支持。这就是为什么华为、SMIC、中兴等优秀公司不断涌现的原因。我们已经拥有最先进的芯片设计、研发技术。

主要原因是我们缺少最先进的光刻机。目前只有荷兰的ASML公司能生产光刻机，聚集了一百多名专家。

然而，中国仍然没有什么可绊倒的，研究人员仍在努力攻克相关技术。不久前，作为行业领军企业，上海微电子成功自主研发出28nm掩模版光刻机。

很多人可能会惊讶，最先进的技术也达到了5nm。当我们只有28纳米的时候，我们能快乐吗？其实我们可以换个角度考虑。

一旦西方国家完全禁止向我们供应光刻机，我们还可以依靠目前的技术生产相应的芯片，不用说，供应已经完全中断。我们的目标不是止步于此。这一次，中科院采用了另一种方法攻克了5nm光刻的关键技术。

好消息来自中国科学院苏州研究所。他们没有跟随ASML的技术进行研发，而是选择了另一条新的技术路线。一种新型的5nm高精度激光光刻技术应运而生，这也意味着我们有可能从28nm工艺直接跳到5nm，从而打破西方国家的垄断。

荷兰ASML光刻机公司收集了许多西方国家共同开发的专利，并申请了专利技术。在光刻机自主研发过程中不能用。这么多年过去了，他们一直在使用拥有众多专利的光刻机。你可以想象我们实现光刻机的国产化有多难。

？我们必须突破所有的技术障碍。在这个过程中，我们必须自主创新，走一条不同的道路。这一次可以绕过自己所有的专利进行突破，对后续的发展有很大的促进作用。所以你认为这一次真的会打破荷属ASML几十年的垄断吗？

好了今天就为大家介绍到这里，我们下一期再见！