光子芯片的“弯道超车”能成功吗？
米国对于中国科技的封锁，从中兴、华为的芯片之后，再到前段时间很火的光刻机担忧，再到近几年成为热点的光子芯片，然后看到这个问题——光子芯片的“弯道超车”能成功吗？
不由得就
一直以来，中国的芯片上就落后于西方大国，存在着不少的差距，想要实现独立自主也很难，除了海量的资金之外，还需要投入大量的科学研究、绕过专利技术等等，想要弯道超车很难。
一直到了现在，芯片领域上已经到了瓶颈，因为随着芯片加工工艺的提升，单位内的电路越多，热量就越高，而热量会导致数据丢失，CPU也会加大运算，因此恶性循环之下也非常容易让芯片毁坏，此外，因为芯片上的电路间距越来越小了，等他们小到一定的程度的时候，就会产生量子效应，让传统的集成电路失去作用。
因此中国芯片想要领先于外国，那么就必须要换道超车。这些专家们研究的光子芯片就是如此。光子芯片是把无数个光学系统整合在芯片上，然后通过超微透镜取代电晶体然后让光子进行运算，这样能比传统芯片提高1000倍的效率，耗电量、成本、热量等等还会有不同程度的降低，在电子产品的设计和运用上也会更加的轻薄、持续性强。
国内能宣称独立自主，当然在芯片的四个环节中都做到了只在中国制造，其中最核心的芯片制造就是重中之重。芯片的加工需要两大特殊设备，一个是光刻机，一个是刻蚀机。刻蚀机设备水平中国已经处于领先水准了，光刻机却还需要有很长的路要走，国外已经造出了3纳米的紫光光光科技，但是中国却还在22纳米徘徊，中国高端芯片受制于人，其实就是说的光刻机。
但是光子芯片上却能够有一个换道超车的好消息。就是光子芯片的设计、加工、封装、测试等四个步骤都是在国内完成的，这就意味着即使中国使用着低精度光刻机和相对落后的加工工艺也能实现和国外同等水平的高性能光子芯片，这就意味着中国可以摆脱长期以来我们对国外高分辨率光刻机的依赖了。当然就目前的情况而言，在科技领域中，无论是量子计算机还是光子计算机在未来的十年二十年都是重要的核心技术领域，中国还有很长一段路要走。
