中国高端光刻机技术现在如何？

光刻机技术，荷兰ASML公司是目前全球最先进的企业 ，其提供的光刻机技术已经达到7nm水平，目前国内有关光刻机技术还处于90nm工艺水平，要达到28nm工艺水平，也需要借助国外光刻机实现

国望光学、上海光机所（上海微电子），长春光机所参与研发的国产光刻机已于2017年首次曝光成功，且曝光光学系统在整机环境下已通过验收测试，目前90纳米国产高端光刻机已顺利验收交付。上海微电子自主生产的SSA600/20光刻机，可以用来加工90nm制程工艺的芯片，如果用来生产军用和航天芯片，那一点问题也没有，但是如果用来制造消费类电子芯片，那只能死路一条，我国能够实现的大规模商业化精度仅仅只达到了90nm，与国外顶级商业化生产差距至少达到了10年

而中国目前最新的65nm光刻机还在设备验证阶段，但这也为中国自主研发28nm双工件干台式及浸没式光刻机奠定了基础。

还有最近中国自主研发的14nm先进制程工艺光刻机已经初步通过专家组的验收和审核，但是如果需要实现量产仍然需要一段时间。

但是，对于中国来说，这是一个极大的进步。而这也让三星非常羡慕，因为韩国尚无法研发光刻机。让华为、中兴等如虎添翼。

未来中国的光刻机将不再受制于人。

还有华中科技大学的甘棕松教授已经用跟ASML公司完全不同的技术路线，首次在世界范围内实现了单线9纳米线宽的超分辨光刻，而且成本只是动辄1亿美元的主流光刻机的几分之一，国产9纳米光刻机即将出现。