国外:荷兰ASML,日本尼康;国内:上海微电子。
一,国外企业
1,荷兰ASML;
ASML占据80%以上的份额,在最先进的EUV光刻机,更是100%垄断7nm纳米以上光刻机市场,独此一家。
2,日本尼康Nikon;
得
国外:荷兰ASML,日本尼康;国内:上海微电子。
一,国外企业
1,荷兰ASML;
ASML占据80%以上的份额,在最先进的EUV光刻机,更是100%垄断7nm纳米以上光刻机市场,独此一家。
2,日本尼康Nikon;
得到Intel大力扶持以平衡ASML,而ASML独步全球的工艺水平和稳定性能最终击败尼康,尼康则开始面向低端领域。
二,国内企业
我国也有不少光刻机制造企业,但是制程都相对比较低。
1,上海微电子;
最新光刻机技术达到90纳米,已经成长为我国唯一的光刻机巨头,在中国市场占比超80%,低端市场几乎被其垄断。2021年,上海微电子有望完成28nm光刻机,并完成交付。
2,合肥芯硕;
是国内首家半导体直写光刻设备制造商,自主研发的ATD4000,已经实现最高200nm的量产。
3,无锡影速;
由中科院微电子研究所联合业内资深技术团队、产业基金共同发起成立的专业微电子装备高科技企业,成功研制用于半导体领域的激光直写/制版光刻设备,已经实现最高200nm的量产。
三,技术研究
国内有关技术研究也在不断取得突破。
2018年8月,清华大学研发出了双工作台光刻机,使得我国成为全球第二个具备开发双工作台光刻机的国家;
2018年11月,中科院光电所成功研发紫外超分辨光刻机,光刻分辨力达到22纳米,结合双重曝光技术后,未来可用于制造10纳米级别的芯片;
2019年4月,武汉光电国家研究中心,成功研制出9纳米光刻技术,使用远场光学,雕刻最小线宽为9nm的线段,实现了从超分辨率成像到超衍射极限光刻制造的重大创新。
上海微电子的光刻机技术即将达到28nm,虽然和ASML的5nm和3nm差距巨大,但是国家集中力量重点发展,一定会给“川建国”送去一个惊喜的。